【Angew. Chem. Int. Ed】具有独特芳香孔表面的微孔金属-有机骨架用于C2H6/C2H4的高效分离
发布日期:2023-09-27 来源:贝士德仪器
要点:在Ni-MOF 1中,每个NiII离子由四个三唑基团(含四个N原子)和两个Cl-离子六配位,形成八面体几何结构,且通过桥接Cl-离子和三唑(tz)基团,扩展到相邻的NiII原子,形成一维链[NiCl(tz)2]nn+。该一维链进一步与中性btz配体连接到四个相邻链上,形成一个三维阳离子开放框架,容纳一维菱形通道,并提供反氯离子来平衡框架的电荷(图1a)。在Ni-MOF 2中,与晶体无关的Ni2+离子由四个吡唑基与四个N原子配位,形成典型的方形平面几何结构。值得注意的是,Ni- MOF 2中的Ni2+离子仅通过吡唑基(pz)基团扩展,形成一维的[Ni(pz)2]n链,并通过bdp连接剂进一步连接,构建具有类似一维菱形通道的三维中性开放框架(图1b)。
要点:由Ni-MOF 1和Ni-MOF 2在298K下对C2H4和C2H6单组分吸附等温线可知,Ni-MOF 1对C2H6和C2H4的吸附行为几乎相同,相比之下,Ni-MOF 2对乙烷表现出明显的优先吸附,其中C2H6的吸附值明显高于C2H4的吸附值(图2a)。由图2b可知,Ni-MOF 2对C2H6/C2H4(50/50)混合物的IAST选择性在298 K和100 kPa下高达1.9,比Ni-MOF 1高出约2倍。比较Ni-MOF 2与其他代表性多孔材料在0.5 bar和室温静态吸附等温线对C2H6和C2H6-C2H4的吸附差异可知,Ni-MOF 2吸附能力明显高于其他代表性多孔材料,且在Ni-MOF 2中,C2H6和C2H4在0.5 bar时的吸附容量(ΔQ)相差高达1.74 mmol/g,这是已报道的C2H6选择性多孔材料中最高的(图2c)。通过分离势的组合度量来评估C2H6/C2H4分离性能,我们知道Ni-MOF 2在C2H6/C2H4(50/50)混合物中表现出相对较高的分离电位(Δq=1.7 mmol/g),且与基准材料CPM-733 (1.88 mmol/g )和Fe2(O2)(dobdc) (1.74 mmol/g)相当,并且优于大多数报道的C2H6选择性吸附剂(图2d)。
要点:为了更深入地了解这对等垂直MOF对C2H6/C2H4分离性能差异的原因,通过密度泛函理论(DFT-D)进行了理论计算,以此确定了C2H6和C2H4的最佳吸附构型。结果表明,C2H6和C2H4分子均位于Ni-MOF 1的孔隙中,但分子取向不同。在此位置,C2H4的3个氢原子可以与相邻的3个芳环(2个苯基和1个吡唑基)相互作用,从而形成多个C-H···π范德华力(vdW)相互作用(2.577 ~ 3.659 Å),第4个氢原子靠近Cl-(C-H···Cl, D=2.833 Å)。同样,C2H6分子中只有4个氢原子可以与芳香环和反阴离子产生C-H···π、C-H···N和C-H···Cl相互作用,它们之间的距离在2.825 ~ 3.289 Å之间。由于几乎相同的主客体多重相互作用,Ni-MOF 1对C2H4 (34.1 kJ/mol)和C2H6 (36.2 kJ/mol)具有相似的结合能(图3a-b)。在Ni-MOF 2中,C2H6分子被吸附在孔角处,其中C2H6的5个氢原子与相邻的4个芳香环(3个苯基和1个吡唑基)相互作用,从而形成多个C-H···π范德华力(vdW)相互作用,其近距离范围为2.936 ~ 3.946 Å。相反,平面C2H4分子垂直于MOF通道,仅与相邻的3个芳香环(2个苯基和1个吡唑基)发生接触,其C-H···π距离较长,为3.456 ~ 3.882 Å。结果表明,较高的极化率和更多、更强的C-H··π相互作用导致Ni-MOF 2对C2H6的结合亲合力比C2H4强,且C2H6的结合能(30.8 kJ/mol)高于C2H4 (26.8 kJ/mol)(图3c-d)。
要点:为了了解材料分离性能的有效性,等摩尔C2H6/C2H4混合物以2 mL/min的流速流过填充有活化Ni-MOF 2样品的填充柱,使用活化的Ni-MOF 2可以有效地分离C2H6/C2H4气体混合物,其中C2H4首先在49分钟洗脱,并在没有检测到C2H6信号的情况下,快速获得聚合物级纯度(超过99.95%)。经过一段时间(10 min),吸附剂在动态混合气流动中饱和,使得优先吸附组分C2H6在59 min达到穿透后通过(图4a)。为了考察易于再生和良好的可重复性对多孔材料吸附剂等影响因素,在298K和1 bar的条件下进行了多次循环混合气体穿透实验,如图4b所示,结果表明,Ni-MOF 2的穿透性能在连续5个循环中几乎保持不变,表明其对该分离具有良好的再现性。值得注意的是,这种MOF只需要在环境条件下通过简单的惰性吹扫即可再生。这种简单的过程对未来的节能分离具有重要意义。
Link: http://doi.org/10.1002/ange.202302564
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要点:在Ni-MOF 1中,每个NiII离子由四个三唑基团(含四个N原子)和两个Cl-离子六配位,形成八面体几何结构,且通过桥接Cl-离子和三唑(tz)基团,扩展到相邻的NiII原子,形成一维链[NiCl(tz)2]nn+。该一维链进一步与中性btz配体连接到四个相邻链上,形成一个三维阳离子开放框架,容纳一维菱形通道,并提供反氯离子来平衡框架的电荷(图1a)。在Ni-MOF 2中,与晶体无关的Ni2+离子由四个吡唑基与四个N原子配位,形成典型的方形平面几何结构。值得注意的是,Ni- MOF 2中的Ni2+离子仅通过吡唑基(pz)基团扩展,形成一维的[Ni(pz)2]n链,并通过bdp连接剂进一步连接,构建具有类似一维菱形通道的三维中性开放框架(图1b)。
要点:由Ni-MOF 1和Ni-MOF 2在298K下对C2H4和C2H6单组分吸附等温线可知,Ni-MOF 1对C2H6和C2H4的吸附行为几乎相同,相比之下,Ni-MOF 2对乙烷表现出明显的优先吸附,其中C2H6的吸附值明显高于C2H4的吸附值(图2a)。由图2b可知,Ni-MOF 2对C2H6/C2H4(50/50)混合物的IAST选择性在298 K和100 kPa下高达1.9,比Ni-MOF 1高出约2倍。比较Ni-MOF 2与其他代表性多孔材料在0.5 bar和室温静态吸附等温线对C2H6和C2H6-C2H4的吸附差异可知,Ni-MOF 2吸附能力明显高于其他代表性多孔材料,且在Ni-MOF 2中,C2H6和C2H4在0.5 bar时的吸附容量(ΔQ)相差高达1.74 mmol/g,这是已报道的C2H6选择性多孔材料中最高的(图2c)。通过分离势的组合度量来评估C2H6/C2H4分离性能,我们知道Ni-MOF 2在C2H6/C2H4(50/50)混合物中表现出相对较高的分离电位(Δq=1.7 mmol/g),且与基准材料CPM-733 (1.88 mmol/g )和Fe2(O2)(dobdc) (1.74 mmol/g)相当,并且优于大多数报道的C2H6选择性吸附剂(图2d)。
要点:为了更深入地了解这对等垂直MOF对C2H6/C2H4分离性能差异的原因,通过密度泛函理论(DFT-D)进行了理论计算,以此确定了C2H6和C2H4的最佳吸附构型。结果表明,C2H6和C2H4分子均位于Ni-MOF 1的孔隙中,但分子取向不同。在此位置,C2H4的3个氢原子可以与相邻的3个芳环(2个苯基和1个吡唑基)相互作用,从而形成多个C-H···π范德华力(vdW)相互作用(2.577 ~ 3.659 Å),第4个氢原子靠近Cl-(C-H···Cl, D=2.833 Å)。同样,C2H6分子中只有4个氢原子可以与芳香环和反阴离子产生C-H···π、C-H···N和C-H···Cl相互作用,它们之间的距离在2.825 ~ 3.289 Å之间。由于几乎相同的主客体多重相互作用,Ni-MOF 1对C2H4 (34.1 kJ/mol)和C2H6 (36.2 kJ/mol)具有相似的结合能(图3a-b)。在Ni-MOF 2中,C2H6分子被吸附在孔角处,其中C2H6的5个氢原子与相邻的4个芳香环(3个苯基和1个吡唑基)相互作用,从而形成多个C-H···π范德华力(vdW)相互作用,其近距离范围为2.936 ~ 3.946 Å。相反,平面C2H4分子垂直于MOF通道,仅与相邻的3个芳香环(2个苯基和1个吡唑基)发生接触,其C-H···π距离较长,为3.456 ~ 3.882 Å。结果表明,较高的极化率和更多、更强的C-H··π相互作用导致Ni-MOF 2对C2H6的结合亲合力比C2H4强,且C2H6的结合能(30.8 kJ/mol)高于C2H4 (26.8 kJ/mol)(图3c-d)。
要点:为了了解材料分离性能的有效性,等摩尔C2H6/C2H4混合物以2 mL/min的流速流过填充有活化Ni-MOF 2样品的填充柱,使用活化的Ni-MOF 2可以有效地分离C2H6/C2H4气体混合物,其中C2H4首先在49分钟洗脱,并在没有检测到C2H6信号的情况下,快速获得聚合物级纯度(超过99.95%)。经过一段时间(10 min),吸附剂在动态混合气流动中饱和,使得优先吸附组分C2H6在59 min达到穿透后通过(图4a)。为了考察易于再生和良好的可重复性对多孔材料吸附剂等影响因素,在298K和1 bar的条件下进行了多次循环混合气体穿透实验,如图4b所示,结果表明,Ni-MOF 2的穿透性能在连续5个循环中几乎保持不变,表明其对该分离具有良好的再现性。值得注意的是,这种MOF只需要在环境条件下通过简单的惰性吹扫即可再生。这种简单的过程对未来的节能分离具有重要意义。
Link: http://doi.org/10.1002/ange.202302564
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